-
1 plasma-activated CVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > plasma-activated CVD
-
2 plasma-assisted CVD
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > plasma-assisted CVD
-
3 плазмохимическое осаждение
adjmicroel. PCVD-Prozeß, Plasma-CVD-Technik, plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung, plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase, plasmaunterstützte, plasmaunterstützte CVDУниверсальный русско-немецкий словарь > плазмохимическое осаждение
-
4 плазмохимическое осаждение из паровой фазы с переменным градиентом
Microelectronics: gradient field plasma cvdУниверсальный русско-английский словарь > плазмохимическое осаждение из паровой фазы с переменным градиентом
-
5 метод химического осаждения из газовой фазы с плазменным стимулированием
nmicroel. Plasma-CVD-TechnikУниверсальный русско-немецкий словарь > метод химического осаждения из газовой фазы с плазменным стимулированием
-
6 метод химического осаждения из паровой фазы с плазменным стимулированием
nmicroel. Plasma-CVD-TechnikУниверсальный русско-немецкий словарь > метод химического осаждения из паровой фазы с плазменным стимулированием
-
7 плазмохимический метод осаждения
adjmicroel. PCVD-Prozeß, Plasma-CVD-TechnikУниверсальный русско-немецкий словарь > плазмохимический метод осаждения
-
8 химическое осаждение из паровой фазы
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > химическое осаждение из паровой фазы
-
9 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
10 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: plasma enhanced chemical vapor deposition2) Silicates: plasma chemical vapor deposition3) Microelectronics: plasma-enchanced CVDУниверсальный русско-английский словарь > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
См. также в других словарях:
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
CVD-Diamant — Diamant Natürliche Diamanten im Brillantschliff Chemische Formel C Mineralklasse Elemente 1.CB.10 (8.Aufl. I/B.02–40) (nach Strunz) 1.3.6.1 (nach Dana) … Deutsch Wikipedia
Plasma (physique) — Physique des plasmas Pour les articles homonymes, voir Plasma. La Science et les Sciences Généralités Connaissance · Théorie · Savoir Classification des sciences … Wikipédia en Français
Plasma Immersions Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
Plasma-Immersions-Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
PA-CVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Physique des plasma — Physique des plasmas Pour les articles homonymes, voir Plasma. La Science et les Sciences Généralités Connaissance · Théorie · Savoir Classification des sciences … Wikipédia en Français
Institute for Plasma Research — (IPR) is an autonomous physics research institute located in India. The institute is involved in research in various aspects of plasma science including basic plasma physics, research on magnetically confined hot plasmas and plasma technologies… … Wikipedia
Lichtwellenleiter — Kunststoff Lichtwellenleiter LWL Patchkabel konfektionier … Deutsch Wikipedia
