-
21 electrolytic metal deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > electrolytic metal deposition
-
22 contact metal deposition
English-Russian dictionary of electronics > contact metal deposition
-
23 deposition of weld metal
deposition of weld metal ( deposition of weld filler metal) SCHW Absetzen n des Schweißgutes, Schweißgutabschmelzung fEnglish-german engineering dictionary > deposition of weld metal
-
24 deposition
- deposition
- nотложение; осаждение; осаждённый [напылённый] слой
- deposition of soil
- metal deposition
Англо-русский строительный словарь. — М.: Русский Язык. С.Н.Корчемкина, С.К.Кашкина, С.В.Курбатова. 1995.
-
25 deposition
1) отложение; осаждение2) напыление, термовакуумное испарение•deposition on the mold — загрязнение пресс-формы-
aerosol deposition
-
alternate deposition
-
atmospheric deposition
-
carbon deposition
-
chemical deposition of metals
-
chemical deposition
-
chemical vapor deposition
-
dry deposition
-
electric arc deposition
-
electrochemical deposition
-
electroless deposition
-
electrolytic deposition
-
electron-beam deposition
-
epitaxial deposition
-
evaporation deposition
-
film deposition
-
flame deposition
-
frost deposition
-
gas deposition
-
glaze-ice and rime deposition
-
hot-wall chemical vapor deposition
-
ion-beam induced deposition
-
ion-beam deposition
-
ion-beam sputter deposition
-
metal deposition
-
metallization deposition
-
metal-organic chemical vapor deposition
-
metal-organic deposition
-
molecular-beam deposition
-
multistep deposition
-
photochemical vapor deposition
-
physical vapor deposition
-
plasma-enchanced deposition
-
plasma deposition
-
polycrystalline deposition
-
selective deposition
-
serigraphic deposition
-
snow deposition
-
spray/fusion deposition
-
sputtering deposition
-
sputter deposition
-
thin film deposition
-
turbulent deposition
-
vacuum deposition
-
vapor-phase deposition
-
vapor deposition
-
welding deposition
-
weld deposition
-
wet deposition -
26 deposition
1. осаждениеelectrochemical deposition — электрохимическое осаждение
electroless deposition — химическое осаждение
electrolytic deposition — электролитическое осаждение, электроосаждение
electrophoretic deposition — электрофорезное осаждение
fluidized-bed deposition — осаждение в псевдоожиженном слое
fused-salt deposition — осаждение в расплавленной соли
gas phase deposition — осаждение из газовой фазы, газофазное осаждение
high-vacuum metal deposition — вакуумная металлизация, металлизация в глубоком вакууме
ion-vapor deposition — ионное газофазное осаждение
metal deposition — 1) осаждение металла ( на поверхность) 2) нанесение металла
plasma spray deposition — осаждение плазменным напылением
pyrolytic deposition — пиролитическое осаждение
thermochemical deposition — термохимическое осаждение
vacuum deposition — осаждение ( покрытия) в вакууме, вакуумное напыление
vacuum metal deposition — вакуумная металлизация
vapor deposition — осаждение из паровой [газовой] фазы, парофазное [газофазное] осаждение
English-Russian dictionary of aviation and space materials > deposition
-
27 deposition
1) осаждение•- axial vapor deposition
- cathodic sputter deposition
- cathodic sputtering deposition
- chemical deposition - directional deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolytic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporative deposition
- film deposition
- gas deposition
- heteroepitaxial deposition
- homoepitaxial deposition
- inside vapor deposition
- ion deposition - masked deposition
- metal-organic chemical vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multistep deposition
- normal incidence deposition
- outside vapor deposition
- planar epitaxial deposition
- plasma deposition
- pulse-laser deposition
- pyrolytic deposition
- reactive sputter deposition
- reactive sputtering deposition
- selective deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- sputtering deposition
- vacuum vapor deposition -
28 deposition
1) осаждение•- axial vapor deposition
- cathodic sputter deposition
- cathodic sputtering deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- contact metal deposition
- directional deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolytic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporative deposition
- film deposition
- gas deposition
- heteroepitaxial deposition
- homoepitaxial deposition
- inside vapor deposition
- ion deposition
- liquid-source chemical vapor deposition
- mask deposition
- masked deposition
- metal-organic chemical vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multistep deposition
- normal incidence deposition
- outside vapor deposition
- planar epitaxial deposition
- plasma deposition
- pulse-laser deposition
- pyrolytic deposition
- reactive sputter deposition
- reactive sputtering deposition
- selective deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- sputtering deposition
- vacuum vapor depositionThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > deposition
-
29 deposition
осадження - blanket deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- diffusional deposition
- dynamic deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolythic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporation deposition
- evaporative deposition
- excimer-induced deposition
- film deposition
- gas deposition
- glow-discharge deposition
- high-rate deposition
- ion-beam induced deposition
- ion-beam deposition
- ionized-cluster beam deposition
- laser gold deposition
- laser-induced deposition
- laser photo-assisted deposition
- laser photochemical deposition
- localized electrochemical deposition LED
- localized electrochemical deposition
- low-pressure chemical vapor deposition LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
- low-temperature vapor deposition
- metal deposition
- metall-organic deposition
- microcrystalline like deposition
- microwave plasma reactive vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multiple-stage deposition
- oblique deposition
- open-tube deposition
- photochemical deposition
- photo-initiated deposition
- photolytic deposition
- photon-controlled deposition
- physical vapor deposition
- plasma-assisted laser deposition
- pyrolytic deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- static deposition
- thin-film deposition
- vacuum vapor deposition
- vapor-phasedeposition
- vapordepositionEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deposition
-
30 deposition
1) осаждение, отложение2) осадок, налёт4) наплавка•- cathodic deposition
- chemical vapor deposition
- coating deposition
- CVD deposition
- electrolyte deposition
- energy deposition
- fused deposition
- hard deposition
- laser energy deposition
- metal deposition
- physical vapor deposition
- PVD depositionEnglish-Russian dictionary of mechanical engineering and automation > deposition
-
31 deposition
1) отложение, осаждение2) осадок; образование наносного грунта; намывание•- deposition of silt* * *отложение; осаждение; осаждённый [напылённый] слой- deposition of soil
- metal deposition -
32 metal-organic chemical vapour deposition
metal-organic chemical vapour deposition metallorganische chemische Bedampfung f, Abscheidung f metallorganischer Verbindungen aus der DampfphaseEnglish-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > metal-organic chemical vapour deposition
-
33 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > metal-organic chemical vapor deposition
-
34 metal deposit factor
коэффициент наплавки при сварке
коэффициент наплавки
Коэффициент, выраженный отношением массы металла, наплавленной за единицу времени горения дуги, отнесенной к единице сварочного тока.
[ ГОСТ 2601-84]Тематики
- сварка, резка, пайка
Синонимы
EN
DE
FR
коэффициент наплавки при сварке
Коэффициент, выраженный отношением массы металла, наплавленной за единицу времени горения дуги, отнесенной к единице сварочного тока.
[ http://www.manual-steel.ru/eng-a.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > metal deposit factor
-
35 metal application
-
36 metal-organic chemical vapor deposition
Большой англо-русский и русско-английский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
37 metal-organic deposition
Большой англо-русский и русско-английский словарь > metal-organic deposition
-
38 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой (газовой) фазы металлоорганических соединенийАнгло-русский словарь технических терминов > metal-organic chemical vapor deposition
-
39 metal-organic deposition
Англо-русский словарь технических терминов > metal-organic deposition
-
40 metal-organic chemical vapor deposition
1) Техника: химическое осаждение из газовой фазы металлоорганических соединений, химическое осаждение из паров металлоорганических соединений, химическое осаждение из паровой ( газовой) фазы металлоорганических соединений, химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений2) Макаров: (MOCVD) химическое осаждение из паров металлоорганических соединений3) Высокочастотная электроника: химическое осаждение металлоорганических соединений из паровой фазыУниверсальный англо-русский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
Déposition (chimique) — Dans le domaine de la chimie de l atmosphère ou de l évaluation environnementale, la notion de « déposition » ( d aérosols, vapeurs ou de particules aéroportées) est utilisé pour décrire les phénomènes conduisant à la formation d un… … Wikipédia en Français
Metal dusting — is a catastrophic form of corrosion that occurs when susceptible materials are exposed to environments with high carbon activities. [1] The corrosion manifests itself as a break up of bulk metal to metal powder. The suspected mechanism is firstly … Wikipedia
Metal matrix composite — A metal matrix composite (MMC) is composite material with at least two constituent parts, one being a metal. The other material may be a different metal or another material, such as a ceramic or organic compound. When at least three materials are … Wikipedia
Metal-induced gap states — In bulk semiconductor band structure calculations, it is assumed that the crystal lattice (which features a periodic potential due to the atomic structure) of the material is infinite. When the finite size of a crystal is taken into account, the… … Wikipedia
Déposition sous vide — Dépôt sous vide Sommaire 1 But 2 Principe 3 Contraintes particulières 4 Avantages et inconvénients … Wikipédia en Français
Gas metal arc welding — RMD redirects here. RMD may also refer to IRA Required Minimum Distributions. Gas metal arc welding … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Electron beam physical vapor deposition — or EBPVD is a form of physical vapor deposition in which a target anode is bombarded with an electron beam given off by a charged tungsten filament under high vacuum. The electron beam causes atoms from the target to transform into the gaseous… … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia