-
1 Si02-Schicht
сущ.электр. слой Si02, слой диоксида кремния -
2 слой Si02
nelectr. Oxidschicht, Si02-Schicht, Siliziumdioxidschicht -
3 ONO-Schicht
сокр.микроэл. ОНО-слой, оксидно-нитридно-оксидный слой, ñëîé SiO2-Si3N4-Si02 -
4 слой SiO2-Si3N4-Si02
abbrMicroelectronics: ONO-SchichtУниверсальный русско-немецкий словарь > слой SiO2-Si3N4-Si02
-
5 ñëîé SiO2-Si3N4-Si02
nmicroel. ONO-SchichtУниверсальный русско-немецкий словарь > ñëîé SiO2-Si3N4-Si02
-
6 слой диоксида кремния
Универсальный русско-немецкий словарь > слой диоксида кремния
См. также в других словарях:
Thermische Oxidation von Silizium — Die thermische Oxidation von Silizium ist in der Halbleitertechnik ein Beschichtungsverfahren, bei dem auf einem einkristallinen Siliziumsubstrat (beispielsweise einem Silizium Wafer) eine dünne Schicht aus amorphen Siliziumdioxid aufgebracht… … Deutsch Wikipedia