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Schichtwachstum

См. также в других словарях:

  • Schichtwachstum — Unter Schichtwachstum versteht man in der Oberflächenchemie das Wachstum von Monolagen auf eine Phasengrenze. Inhaltsverzeichnis 1 Schichtwachstumsarten 2 Siehe auch 3 Literatur 4 …   Deutsch Wikipedia

  • Schichtwachstum — sluoksninis augimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. laminated growth vok. Schichtwachstum, n rus. рост слоями, m; слоистый рост, m pranc. croissance feuilletée, f …   Fizikos terminų žodynas

  • Atomic Layer Deposition — Die Atomlagenabscheidung (engl. atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Verschiedene Namen ein Prinzip, die Atomlagenabscheidung[1] Bezeichnung Abkürzung Atomic layer deposition… …   Deutsch Wikipedia

  • Allotaxie — Molekularstrahlepitaxie (engl. molecular beam epitaxy, MBE) ist ein PVD Verfahren, um dünne kristalline Schichten herzustellen. Der Begriff Molekularstrahlepitaxie wird vor allem in der Halbleitertechnik verwendet; das Verfahren wird angewandt um …   Deutsch Wikipedia

  • Anodisation — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Anodisierung — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Anodized — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Atomlagenabscheidung — Die Atomlagenabscheidung (englisch atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Diese haben in der Regel eine polykristalline oder amorphe Struktur. Für einkristalline… …   Deutsch Wikipedia

  • Dünnschicht-Technologie — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …   Deutsch Wikipedia

  • Dünnschichttechnik — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …   Deutsch Wikipedia

  • Eloxal — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

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