Positivlack

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• Fotolack — Fotolacke (englisch photoresist) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich sowie bei der… …   Deutsch Wikipedia

• Fotoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Negativresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Photolack — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Photoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Positivresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Resist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe …   Deutsch Wikipedia

• Fotolithografie (Halbleitertechnik) — Die Fotolithografie (auch Photolithographie) ist eine der zentralen Methoden der Halbleiter und Mikrosystemtechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen und weiteren Produkten. Dabei wird mittels der Belichtung das Bild einer Fotomaske auf …   Deutsch Wikipedia

• Dorno-Strahlung — Ultraviolettstrahlung (kurz UV Strahlung oder Ultraviolett, auch ultraviolettes Licht (kurz UV Licht), ugs. auch Schwarzlicht oder selten auch Infraviolett Strahlung Abk. IV Strahlung genannt) ist für Menschen unsichtbare elektromagnetische… …   Deutsch Wikipedia

• EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… …   Deutsch Wikipedia

• Halbleitertechnik — Die Halbleitertechnik definiert sich historisch und aufgrund der Verwendung der Produkte als Schlüsselkomponenten in elektrotechnischen Erzeugnissen als Teilgebiet der Elektrotechnik (speziell der Mikroelektronik). Trifft man die Zuordnung… …   Deutsch Wikipedia