Перевод: с русского на все языки

со всех языков на русский

PACVD

  • 1 plasma-assisted chemical vapor deposition

    Automation: PACVD

    Универсальный русско-английский словарь > plasma-assisted chemical vapor deposition

  • 2 химическое осаждение из паровой фазы

     (CVD)
     Химическое осаждение из паровой фазы
      Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.

    Russian-English dictionary of Nanotechnology > химическое осаждение из паровой фазы

  • 3 chemical vapor deposition

     (CVD)
     Химическое осаждение из паровой фазы
      Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.

    Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition

См. также в других словарях:

  • PACVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… …   Deutsch Wikipedia

  • PACVD — Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) …   Abbreviations dictionary

  • PA-CVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… …   Deutsch Wikipedia

  • PECVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… …   Deutsch Wikipedia

  • Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… …   Deutsch Wikipedia

  • Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… …   Deutsch Wikipedia

  • Vacuum deposition — Not to be confused with Vacuum coating. Vacuum deposition is a family of processes used to deposit layers atom by atom or molecule by molecule at sub atmospheric pressure (vacuum) on a solid surface. The layers may be as thin as one atom to… …   Wikipedia

  • HEF Groupe — Infobox Company company name = HEF Groupe company company type = Private company slogan = foundation = 1953 location = flagicon|France Andrézieux Bouthéon key people = net Profit = industry = products = revenue = profit €90 million (2006) [ [http …   Wikipedia

  • Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (englisch plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung …   Deutsch Wikipedia

  • Schneidkeramik — Wälzfräser aus dem Schneidstoff Schnellarbeitsstahl Als Schneidstoffe werden diejenigen Werkstoffe bezeichnet, aus denen der schneidende Teil eines Zerspanungswerkzeugs mit geometrisch bestimmter Schneide oder eines Scherwerkzeugs besteht. Sie… …   Deutsch Wikipedia

  • Schneidstoff — Wälzfräser aus dem Schneidstoff Schnellarbeitsstahl Als Schneidstoffe werden diejenigen Werkstoffe bezeichnet, aus denen der schneidende Teil eines Zerspanungswerkzeugs mit geometrisch bestimmter Schneide oder eines Scherwerkzeugs besteht. Sie… …   Deutsch Wikipedia

Поделиться ссылкой на выделенное

Прямая ссылка:
Нажмите правой клавишей мыши и выберите «Копировать ссылку»