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1 Nitridschicht
сущ.микроэл. нитридная пленка -
2 Nitridschicht
fслой нитридный -
3 слой нитридный
Nitridschicht f -
4 слой нитридный
• слой m нитридныйenglish: nitride [white] layerdeutsch: Nitridschicht ffrançais: couche f de nitrureРусско-английский (-немецко, -французский) металлургический словарь > слой нитридный
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5 нитридная пленка
adjmicroel. Nitridfilm, Nitridschicht -
6 нітридний шар
ru\ \ нитридный слойen\ \ [lang name="English"]nitride layer, white layerde\ \ Nitridschichtfr\ \ \ couche de nitrureшар хімічних сполук (нітридів), що утворюється у процесі азотування -
7 нитридный слой
ua\ \ нітридний шарen\ \ [lang name="English"]nitride layer, white layerde\ \ Nitridschichtfr\ \ \ couche de nitrureслой химических соединений (нитридов), образующийся в процессе азотирования
См. также в других словарях:
LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… … Deutsch Wikipedia
LOCOS — LOCOS, kurz für Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an ausgewählten Stellen… … Deutsch Wikipedia
Grabenisolation — Die Grabenisolation (englisch shallow trench isolation, STI, auch box isolation technique) ist ein Verfahren der Halbleitertechnik zur elektrischen Isolation einzelner Bauelemente (hauptsächlich MIS Feldeffekttransistoren) auf integrierten… … Deutsch Wikipedia
