-
1 LPCVD
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > LPCVD
-
2 LPCVD
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > LPCVD
-
3 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
4 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
5 LPCVD
сокр. [low-pressure chemical vapor deposition] химическое осаждение из паровой [газовой] фазы при пониженном давлении -
6 LPCVD
сокр. от low-pressure chemical vapor depositionхимическое осаждение из паровой [газовой\] фазы при пониженном давлении -
7 LPCVD
1) Электроника: Liquid Phase Chemical Vapour Deposition2) Полупроводники: low pressure chemical vapor deposition3) Макаров: low-pressure chemical vapor deposition -
8 LPCVD
сущ. -
9 LPCVD
low-pressure chemical vapor deposition - вакуумное химическое осаждение из газовой фазы; химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении -
10 LPCVD
• alipainetta käyttävä kemiallinen kaasufaasikasvatus -
11 LPCVD reactor
Микроэлектроника: реактор для химического осаждения из паровой фазы -
12 LPCVD reactor
реактор для хімічного осадження з парової фази при низькому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > LPCVD reactor
-
13 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
Макаров: химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
14 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
15 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
16 химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
-
17 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
18 alipainetta käyttävä kemiallinen kaasufaasikasvatus
• LPCVD• low pressure chemical vapor depositionSuomi-Englanti sanakirja > alipainetta käyttävä kemiallinen kaasufaasikasvatus
-
19 Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
-
20 low-pressure chemical vapor deposition
1) Техника: вакуумное химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении2) Микроэлектроника: химическое парофазное осаждение при низком давлении3) Макаров: (LPCVD) химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
- 1
- 2
См. также в других словарях:
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) * Liquid Phase Chemical Vapour Deposition (Academic & Science » Electronics) … Abbreviations dictionary
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition Contributor: CASI … NASA Acronyms
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
Crystalline silicon — is a material consisting of one or more small silicon crystals. Polycrystalline silicon Polycrystalline silicon (or polysilicon, poly Si, or simply poly in context) is a material consisting of multiple small silicon crystals.Polycrystalline… … Wikipedia
Silicon nitride — Preferred IUPAC name Silicon nitride … Wikipedia