ALCVD

См. также в других словарях:

• Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in …   Wikipedia

• Atomic layer epitaxy — (ALE), now more generally called Atomic Layer Deposition, is a specialized form of epitaxy that typically deposit alternating monolayers of two elements onto a substrate. The crystal lattice structure achieved is thin, uniform, and aligned with… …   Wikipedia

• Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

• Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition  химическое парофазное осаждение)  хим …   Википедия

• химическое осаждение атомарных слоев из паров — То же, что осаждение атомарных слоев [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN ALCVDatomic layer chemical vapor deposition …   Справочник технического переводчика