-
41 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииАнгло-русский словарь по нанотехнологиям > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
42 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
43 rapid thermal chemical vapor deposition
быстрое термохимическое осаждение из паровой фазы
Термически ускоренный процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при высокой температуре, но за очень короткое время.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > rapid thermal chemical vapor deposition
-
44 selective area chemical vapor deposition
избирательное химическое осаждение из паровой фазы
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором тонкопленочный материал осаждается только в выбранных местах на поверхности подложки; избирательность осаждения управляется химическим составом поверхности, который можно локально изменять.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > selective area chemical vapor deposition
-
45 plasma enhanced chemical vapor deposition
плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.
—
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > plasma enhanced chemical vapor deposition
-
46 atomic layer chemical vapor deposition
химическое осаждение атомарных слоев из паров
То же, что осаждение атомарных слоев
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > atomic layer chemical vapor deposition
-
47 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном выращивании очень тонких пленок полупроводников III-V.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > metal-organic chemical vapor deposition
-
48 atmospheric pressure chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
49 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
50 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
-
51 plasma-activated chemical vapor deposition
(AmE) see plasma-activated chemical vapour deposition BrEEnglish-Spanish technical dictionary > plasma-activated chemical vapor deposition
-
52 atmospheric-pressure chemical vapor deposition
English-Russian big polytechnic dictionary > atmospheric-pressure chemical vapor deposition
-
53 metal-organic chemical vapor deposition
Большой англо-русский и русско-английский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
54 hot-wall chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой (газовой) фазы методом горячей стенкиАнгло-русский словарь технических терминов > hot-wall chemical vapor deposition
-
55 metal-organic chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой (газовой) фазы металлоорганических соединенийАнгло-русский словарь технических терминов > metal-organic chemical vapor deposition
-
56 atmospheric chemical vapor deposition
Универсальный англо-русский словарь > atmospheric chemical vapor deposition
-
57 atmospheric-pressure chemical vapor deposition
Универсальный англо-русский словарь > atmospheric-pressure chemical vapor deposition
-
58 hot-wall chemical vapor deposition
Техника: химическое осаждение из газовой фазы методом горячей стенки, химическое осаждение из паровой ( газовой) фазы методом горячей стенки, химическое осаждение из паровой фазы методом горячей стенкиУниверсальный англо-русский словарь > hot-wall chemical vapor deposition
-
59 inside chemical-vapor deposition
Техника: внутреннее химическое напылениеУниверсальный англо-русский словарь > inside chemical-vapor deposition
-
60 laser-induced chemical vapor deposition of metal
Универсальный англо-русский словарь > laser-induced chemical vapor deposition of metal
См. также в других словарях:
chemical vapor deposition — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical Vapor Deposition (journal) — Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo … Wikipedia
Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
chemical vapor deposition oxide — cheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition oxide vok. chemisches Gasphasenabscheidungsoxid, n rus. оксид, сформированный методом химического осаждения из паровой фазы,… … Radioelektronikos terminų žodynas
chemical vapor deposition silicon — cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического… … Radioelektronikos terminų žodynas