-
1 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
2 chemical vapor deposition
Polymers: CVDУниверсальный русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
3 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
4 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
5 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
-
6 - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
Abbreviation: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
-
7 Atmospheric pressure chemical vapor deposition
Electronics: APCVDУниверсальный русско-английский словарь > Atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
8 Dielectric Chemical Vapor Deposition
Electronics: DCVDУниверсальный русско-английский словарь > Dielectric Chemical Vapor Deposition
-
9 Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
Electronics: LTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
-
10 Metal Chemical Vapor Deposition
Electronics: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > Metal Chemical Vapor Deposition
-
11 Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
Electronics: RTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
-
12 Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition
Electronics: WCVDУниверсальный русско-английский словарь > Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition
-
13 inside chemical-vapor deposition
Engineering: ICVDУниверсальный русско-английский словарь > inside chemical-vapor deposition
-
14 laser chemical vapor deposition
Optics: LCVDУниверсальный русско-английский словарь > laser chemical vapor deposition
-
15 low pressure chemical vapor deposition
Semiconductors: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low pressure chemical vapor deposition
-
16 metal-organic chemical vapor deposition
Engineering: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metal-organic chemical vapor deposition
-
17 metallo-organic chemical vapor deposition
Makarov: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metallo-organic chemical vapor deposition
-
18 metallorganic chemical vapor deposition
Optics: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metallorganic chemical vapor deposition
-
19 microwave plasma chemical vapor deposition method
Chemistry: MPCVDУниверсальный русско-английский словарь > microwave plasma chemical vapor deposition method
-
20 modified chemical vapor deposition
Optics: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > modified chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
chemical vapor deposition — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical Vapor Deposition (journal) — Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo … Wikipedia
Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
chemical vapor deposition oxide — cheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition oxide vok. chemisches Gasphasenabscheidungsoxid, n rus. оксид, сформированный методом химического осаждения из паровой фазы,… … Radioelektronikos terminų žodynas
chemical vapor deposition silicon — cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического… … Radioelektronikos terminų žodynas