-
1 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
2 Chemical Vapour Deposition
Nuclear physics: CVDУниверсальный русско-английский словарь > Chemical Vapour Deposition
-
3 chemical solution deposition
Semiconductors: CSDУниверсальный русско-английский словарь > chemical solution deposition
-
4 chemical vapor deposition
Polymers: CVDУниверсальный русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
5 chemical anorganic deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > chemical anorganic deposition
-
6 chemical bath deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > chemical bath deposition
-
7 chemical organic deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > chemical organic deposition
-
8 chemical vapo(u)r deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > chemical vapo(u)r deposition
-
9 chemical vapo(u)r deposition
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > chemical vapo(u)r deposition
-
10 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
11 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
-
12 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
13 - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
Abbreviation: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
-
14 Atmospheric pressure chemical vapor deposition
Electronics: APCVDУниверсальный русско-английский словарь > Atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
15 Dielectric Chemical Vapor Deposition
Electronics: DCVDУниверсальный русско-английский словарь > Dielectric Chemical Vapor Deposition
-
16 Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
Electronics: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
-
17 Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
Electronics: LTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
-
18 Metal Chemical Vapor Deposition
Electronics: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > Metal Chemical Vapor Deposition
-
19 Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
Abbreviation: PECVDУниверсальный русско-английский словарь > Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
-
20 Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
Electronics: RTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
См. также в других словарях:
Chemical deposition — Chemical deposition. См. Химическое осаждение. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов
chemical deposition — cheminis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical deposition vok. chemische Abscheidung, f rus. химическое осаждение, n pranc. déposition chimique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical Solution Deposition — Der englische Begriff chemical solution deposition (CSD, dt. ‚chemische Abscheidung aus der Lösung‘, ‚chemische Lösungsabscheidung‘) bezeichnet eine Gruppe von (chemischen) Beschichtungsverfahren, bei denen ein Substrat zunächst mit in einer… … Deutsch Wikipedia
déposition chimique — cheminis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical deposition vok. chemische Abscheidung, f rus. химическое осаждение, n pranc. déposition chimique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical beam epitaxy — (CBE) forms an important class of deposition techniques for semiconductor layer systems, especially III V semiconductor systems. This form of epitaxial growth is performed in an ultrahigh vacuum system. The reactants are in the form of molecular… … Wikipedia
Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical Vapor Deposition (journal) — Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo … Wikipedia
Chemical vapor infiltration — (CVI) is a variant on Chemical Vapor Deposition (CVD). CVD implies deposition onto a surface, whereas CVI implies deposition within a body. Chemical vapor infiltration is widely used as a means of fabricating Ceramic Matrix Composites (CMCs) such … Wikipedia
Deposition — or Depose may refer to: Deposition (law), taking testimony outside of court Deposition (chemistry), molecules settling out of a solution Thin film deposition, any technique for depositing a thin film of material onto a substrate or onto… … Wikipedia
Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов