-
1 PECVD
плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.
—
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > PECVD
-
2 PECVD
-
3 PECVD
сокр. от plasma enhanced chemical vapor depositionплазмохимическое осаждение из паровой [газовой\] фазы -
4 PECVD
1) Техника: plasma enhanced chemical vapor deposition2) Сокращение: Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition3) Высокочастотная электроника: plasma-enhanced chemical vapor deposition -
5 PECVD
plasma enhanced chemical vapor deposition - плазмохимическое осаждение из паровой фазы -
6 химическое осаждение из паровой фазы
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Англо-русский словарь по нанотехнологиям > химическое осаждение из паровой фазы
-
7 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Англо-русский словарь по нанотехнологиям > chemical vapor deposition
-
8 plasma enhanced chemical vapor deposition
плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.
—
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > plasma enhanced chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
PECVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
PECVD — Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) … Abbreviations dictionary
PECVD — plasma enhanced chemical vapor deposition … Medical dictionary
PECVD — • plasma enhanced chemical vapor deposition … Dictionary of medical acronyms & abbreviations
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
PA-CVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
PACVD — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
