-
61 нанесение покрытия осаждением из паров
1) Metallurgy: vapor deposition2) Automation: PVD deposition, physical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > нанесение покрытия осаждением из паров
-
62 парофазное осаждение
1) Chemistry: vapour deposition2) Silicates: vapor deposition (в производстве оптического стекловолокна), vapor-phase deposition (в производстве оптического стекловолокна)Универсальный русско-английский словарь > парофазное осаждение
-
63 осаждение
1. sedimentation2. precipitation3. deposition[lang name="Russian"]вакуумное осаждение; вакуумное напыление — vacuum deposition
-
64 вакуумное осаждение
вакуумное осаждение; вакуумное напыление — vacuum deposition
Русско-английский новый политехнический словарь > вакуумное осаждение
-
65 скорость осаждения
вакуумное осаждение; вакуумное напыление — vacuum deposition
Русско-английский военно-политический словарь > скорость осаждения
-
66 осаждение в паровой фазе
Silicates: vapor deposition, vapor-phase depositionУниверсальный русско-английский словарь > осаждение в паровой фазе
-
67 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: plasma enhanced chemical vapor deposition2) Silicates: plasma chemical vapor deposition3) Microelectronics: plasma-enchanced CVDУниверсальный русско-английский словарь > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
-
68 фотохимическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: (газовой) photochemical vapor deposition, photochemical vapor deposition2) Microelectronics: optical cvdУниверсальный русско-английский словарь > фотохимическое осаждение из паровой фазы
-
69 химическое осаждение из газовой фазы
1) Electronics: chemical vapor deposition, chemical vapor plating2) Solar energy: CVD3) Makarov: chemical gas-phase depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из газовой фазы
-
70 химическое осаждение из паров металлоорганических соединений
1) Engineering: metal-organic chemical vapor deposition2) Makarov: metal-organic chemical vapor deposition( MOCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паров металлоорганических соединений
-
71 химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
Engineering: (газовой) metal-organic chemical vapor deposition, metal-organic chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений
-
72 химическое осаждение из паровой фазы методом горячей стенки
Engineering: (газовой) hot-wall chemical vapor deposition, hot-wall chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы методом горячей стенки
-
73 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
1) Engineering: low-pressure chemical vapor deposition2) Makarov: low-pressure chemical vapor deposition( LPCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
74 активируемые плазмой отложения в паровой фазе
активируемые плазмой отложения в паровой фазе
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > активируемые плазмой отложения в паровой фазе
-
75 быстрое термохимическое осаждение из паровой фазы
быстрое термохимическое осаждение из паровой фазы
Термически ускоренный процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при высокой температуре, но за очень короткое время.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > быстрое термохимическое осаждение из паровой фазы
-
76 избирательное химическое осаждение из паровой фазы
избирательное химическое осаждение из паровой фазы
Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором тонкопленочный материал осаждается только в выбранных местах на поверхности подложки; избирательность осаждения управляется химическим составом поверхности, который можно локально изменять.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > избирательное химическое осаждение из паровой фазы
-
77 керамика с химически осажденным из паровой фазы покрытием
керамика с химически осажденным из паровой фазы покрытием
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > керамика с химически осажденным из паровой фазы покрытием
-
78 осаждение из паровой фазы
осаждение из паровой фазы
Процесс покрытия, разновидность осаждения материала в виде индивидуальных атомов или молекул. Наиболее общие PVD методы включают разбрызгивание и испарение. Разбрызгивание, которое является главным процессом PVD, использует перенос материала от источника к детали посредством бомбардировки цели газовыми ионами, которые ускоряются высоким напряжением. Испарение, которое было первым используемым процессом PVD, использует перенос материала, чтобы формировать покрытие только физическим способом, по существу выпариванием. PVD покрытия используются, чтобы улучшить износостойкость, сопротивление истиранию и твердость режущих инструментов, а так же, как коррозионно-стойкие покрытия.
[ http://www.manual-steel.ru/eng-a.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > осаждение из паровой фазы
-
79 плазменное осаждение из паровой фазы
плазменное осаждение из паровой фазы
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > плазменное осаждение из паровой фазы
-
80 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.
—
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
См. также в других словарях:
Vapor deposition — can refer to: * Chemical vapor deposition * Physical vapor deposition … Wikipedia
vapor deposition — Vapor Deposition Осаждение из газовой фазы Химическое осаждение из газовой фазы получение твердых веществ с помощью химических реакций, в которых участвуют газообразные реагенты. Используют для получения текстурированных покрытий,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
vapor deposition — garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. evaporation deposition; vapor deposition; vapor phase deposition vok. Abscheidung aus der Dampfphase, f; Dampfphasenabscheidung, f rus. осаждение из паровой фазы, n pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
vapor deposition — A production of a surface film of metal on a heated surface, usually in a vacuum, either by decomposition of the vapor of a compound at the work surface, or by direct reaction between the work surface and the vapor. Also see zinc vapor deposition … Dictionary of automotive terms
vapor deposition — užgarinimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. evaporation; vapor deposition; vapour deposition vok. Aufdampfung, f; Bedampfung, f rus. нанесение испарением, n pranc. dépôt en phase vapeur, m … Fizikos terminų žodynas
vapor deposition equipment — garinio nusodinimo įrenginys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vapor deposition equipment vok. Bedampfungsanlage, f rus. установка осаждения из паровой фазы, f pranc. équipement de déposition en phase vapeur, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Physical vapor deposition — (PVD) is a variety of vacuum deposition and is a general term used to describe any of a variety of methods to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the material onto various surfaces (e.g., onto semiconductor wafers). The… … Wikipedia