-
1 vapor deposition
Осаждение из газовой фазыХимическое осаждение из газовой фазы - получение твердых веществ с помощью химических реакций, в которых участвуют газообразные реагенты. Используют для получения текстурированных покрытий, монокристаллов, эпитаксиальных и монокристаллических пленок (например, в планарной технологии), нитевидных монокристаллов ("усов"), барьерных слоев (предотвращающих разрушение покрытий на соплах ракет), при изготовлении различных изделий сложной конфигурации и др.Russian-English dictionary of Nanotechnology > vapor deposition
-
2 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
3 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
4 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
5 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
-
6 - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
Abbreviation: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > - Metal Organic Chemical Vapor Deposition
-
7 Alcatel Plasma Vapor Deposition
Electronics: APVD (Alcatel-France)Универсальный русско-английский словарь > Alcatel Plasma Vapor Deposition
-
8 Atmospheric pressure chemical vapor deposition
Electronics: APCVDУниверсальный русско-английский словарь > Atmospheric pressure chemical vapor deposition
-
9 Dielectric Chemical Vapor Deposition
Electronics: DCVDУниверсальный русско-английский словарь > Dielectric Chemical Vapor Deposition
-
10 Internal Vapor Deposition
Telecommunications: IVDУниверсальный русско-английский словарь > Internal Vapor Deposition
-
11 Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
Electronics: LTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Low- Temperature Chemical Vapor Deposition
-
12 Metal Chemical Vapor Deposition
Electronics: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > Metal Chemical Vapor Deposition
-
13 Nickel Vapor Deposition
Electronics: NVDУниверсальный русско-английский словарь > Nickel Vapor Deposition
-
14 Outside Vapor Deposition
Telecommunications: OVDУниверсальный русско-английский словарь > Outside Vapor Deposition
-
15 Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
Electronics: RTCVDУниверсальный русско-английский словарь > Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
-
16 Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition
Electronics: WCVDУниверсальный русско-английский словарь > Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition
-
17 axial vapor deposition
Optics: AVDУниверсальный русско-английский словарь > axial vapor deposition
-
18 chemical vapor deposition
Polymers: CVDУниверсальный русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
19 inside chemical-vapor deposition
Engineering: ICVDУниверсальный русско-английский словарь > inside chemical-vapor deposition
-
20 inside vapor deposition
Silicates: IVDУниверсальный русско-английский словарь > inside vapor deposition
См. также в других словарях:
Vapor deposition — can refer to: * Chemical vapor deposition * Physical vapor deposition … Wikipedia
vapor deposition — Vapor Deposition Осаждение из газовой фазы Химическое осаждение из газовой фазы получение твердых веществ с помощью химических реакций, в которых участвуют газообразные реагенты. Используют для получения текстурированных покрытий,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
vapor deposition — garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. evaporation deposition; vapor deposition; vapor phase deposition vok. Abscheidung aus der Dampfphase, f; Dampfphasenabscheidung, f rus. осаждение из паровой фазы, n pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
vapor deposition — A production of a surface film of metal on a heated surface, usually in a vacuum, either by decomposition of the vapor of a compound at the work surface, or by direct reaction between the work surface and the vapor. Also see zinc vapor deposition … Dictionary of automotive terms
vapor deposition — užgarinimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. evaporation; vapor deposition; vapour deposition vok. Aufdampfung, f; Bedampfung, f rus. нанесение испарением, n pranc. dépôt en phase vapeur, m … Fizikos terminų žodynas
vapor deposition equipment — garinio nusodinimo įrenginys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vapor deposition equipment vok. Bedampfungsanlage, f rus. установка осаждения из паровой фазы, f pranc. équipement de déposition en phase vapeur, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
Physical vapor deposition — (PVD) is a variety of vacuum deposition and is a general term used to describe any of a variety of methods to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the material onto various surfaces (e.g., onto semiconductor wafers). The… … Wikipedia
