-
1 Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching
Electronics: MERIEУниверсальный русско-английский словарь > Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching
-
2 Magnetron Ion Etching
Electronics: MIEУниверсальный русско-английский словарь > Magnetron Ion Etching
-
3 Metal Organic Reactive Ion Etching
Electronics: MORIEУниверсальный русско-английский словарь > Metal Organic Reactive Ion Etching
-
4 Reactive Ion Etching
Универсальный русско-английский словарь > Reactive Ion Etching
-
5 deep reactive ion etching
Engineering: DRIEУниверсальный русско-английский словарь > deep reactive ion etching
-
6 metal-organic reactive ion etching
Semiconductors: MORIEУниверсальный русско-английский словарь > metal-organic reactive ion etching
-
7 magnetron ion etching
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > magnetron ion etching
-
8 ion beam etching
Ионно-лучевое травление (ИЛТ)Процесс удаления вещества с поверхности твердого тела, осуществляемый его бомбардировкой пучками ионов инертных газов. Реактивное ИЛТ (РИЛТ) - удаление материала за счет химического взаимодействия ионов соединений с обрабатываемым материалом, в результате чего образуются летучие соединения, откачиваемые вакуумной системой.Russian-English dictionary of Nanotechnology > ion beam etching
-
9 Ion Beam Assisted Etching
Electronics: IBAEУниверсальный русско-английский словарь > Ion Beam Assisted Etching
-
10 Ion Beam Etching
Electronics: IBE -
11 ion-beam assisted etching
Engineering: IBAEУниверсальный русско-английский словарь > ion-beam assisted etching
-
12 ion-beam assisted reactive etching
Microelectronics: IBAEУниверсальный русско-английский словарь > ion-beam assisted reactive etching
-
13 ion-beam etching
Engineering: IBE -
14 ion beam etching
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > ion beam etching
-
15 ion-beam-assisted etching
ионно-лучевое ( безмасочное) травлениеАнгло-русский словарь промышленной и научной лексики > ion-beam-assisted etching
-
16 Chemically- Assisted Ion Beam Etching
Electronics: CAIBEУниверсальный русско-английский словарь > Chemically- Assisted Ion Beam Etching
-
17 Reaction Ion Beam Etching
Electronics: RIBEУниверсальный русско-английский словарь > Reaction Ion Beam Etching
-
18 chemical-assisted ion-beam etching
Optics: CAIBEУниверсальный русско-английский словарь > chemical-assisted ion-beam etching
-
19 chemically-assisted ion beam etching
Semiconductors: CAIBEУниверсальный русско-английский словарь > chemically-assisted ion beam etching
-
20 inert ion-beam etching
Optics: IBEУниверсальный русско-английский словарь > inert ion-beam etching
См. также в других словарях:
ion etching — ion etching, a method of eroding materials such as metals, glass, polymers, and body tissue, atom by atom, by bombarding them with high energy ions, in order to reveal their smallest structural features … Useful english dictionary
ion etching — joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching vok. Ionenätzen, n rus. ионное травление, n pranc. décapage ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
ion-etching chamber — joninio ėsdinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching chamber vok. Ionenätzkammer, f rus. камера для ионного травления, f pranc. chambre pour décapage ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
diode ion etching — dvielektrodis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. diode ion etching vok. Diodenätzen, n; Ionenstrahlätzen in einer Diodenätzanlage, n rus. двухэлектродное ионное травление, n pranc. décapage ionique à l… … Radioelektronikos terminų žodynas
high-frequency ion etching — aukštadažnis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. high frequency ion etching vok. Hochfrequenzionenätzen, n rus. высокочастотное ионное травление, n pranc. gravure ionique à haute fréquence, f … Radioelektronikos terminų žodynas