-
1 chemical vapour deposition
chemical vapour deposition chemische Aufdampfung f [Bedampfung f ], chemische Abscheidung f aus der Gasphase, CVD-Beschichtungsverfahren nEnglish-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > chemical vapour deposition
-
2 chemical vapour deposition
Микроэлектроника: ХПО, химическое осаждение из паровой фазы, химическое парофазное осаждениеУниверсальный англо-русский словарь > chemical vapour deposition
-
3 Chemical Vapour Deposition
English-german technical dictionary > Chemical Vapour Deposition
-
4 chemical vapour deposition
endapan uap kimia -
5 chemical vapour deposition
English-Russian dictionary of terminology cable technology > chemical vapour deposition
-
6 chemical vapour deposition
osadzanie chemiczne warstw z fazy gazowejEnglish-Polish dictionary for engineers > chemical vapour deposition
-
7 chemical vapour deposition
English-Spanish technical dictionary > chemical vapour deposition
-
8 homogeneous chemical vapour deposition
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > homogeneous chemical vapour deposition
-
9 low-pressure chemical vapour deposition
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > low-pressure chemical vapour deposition
-
10 metal-organic chemical vapour deposition
metal-organic chemical vapour deposition metallorganische chemische Bedampfung f, Abscheidung f metallorganischer Verbindungen aus der DampfphaseEnglish-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > metal-organic chemical vapour deposition
-
11 plasma-enhanced chemical vapour deposition
plasma-enhanced chemical vapour deposition plasmaunterstützte chemische Dampfablagerung f [Aufdampfung f ]English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > plasma-enhanced chemical vapour deposition
-
12 low-pressure chemical vapour deposition
Микроэлектроника: low-pressure chemical vapor depositionУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapour deposition
-
13 organometallic chemical vapour deposition
Микроэлектроника: organometallic chemical vapor depositionУниверсальный англо-русский словарь > organometallic chemical vapour deposition
-
14 laser-induced chemical vapour deposition
Универсальный англо-русский словарь > laser-induced chemical vapour deposition
-
15 modified chemical vapour deposition
Кабельные производство: модифицированный метод химического парофазного осажденияУниверсальный англо-русский словарь > modified chemical vapour deposition
-
16 MOCVD - metal organic chemical vapour deposition
химическое осаждение паров металлоорганических соединенийТерминологический словарь МИД России > MOCVD - metal organic chemical vapour deposition
-
17 plasma-enhanced chemical vapour deposition
English-german technical dictionary > plasma-enhanced chemical vapour deposition
-
18 modified chemical vapour deposition
English-Russian dictionary of terminology cable technology > modified chemical vapour deposition
-
19 low-pressure chemical vapour deposition
chemiczne niskociśnieniowe osadzanie warstw z fazy gazowejEnglish-Polish dictionary for engineers > low-pressure chemical vapour deposition
-
20 modiried chemical vapour deposition
zmodyfikowane osadzanie z fazy lotnejEnglish-Polish dictionary for engineers > modiried chemical vapour deposition
См. также в других словарях:
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical Vapour Infiltration — Der Begriff chemische Gasphaseninfiltration (englisch chemical vapour infiltration, CVI) bezeichnet ein Verfahren, bei dem in Anlehnung an das CVD Verfahren (CVD = chemical vapour deposition) ein Bauteil nicht nur oberflächlich beschichtet wird,… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Metalorganic vapour phase epitaxy — (MOVPE), also known as organometallic vapour phase epitaxy (OMVPE) or metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD), is a chemical vapour deposition method of epitaxial growth of materials, especially compound semiconductors from the surface… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia