-
1 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
2 химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
-
3 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
4 Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
Electronics: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
-
5 low pressure chemical vapor deposition
Semiconductors: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low pressure chemical vapor deposition
-
6 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
7 реактор для химического осаждения из паровой фазы
Microelectronics: LPCVD reactor, mo-cvd reactorУниверсальный русско-английский словарь > реактор для химического осаждения из паровой фазы
-
8 химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
1) Engineering: low-pressure chemical vapor deposition2) Makarov: low-pressure chemical vapor deposition( LPCVD)Универсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
-
9 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииRussian-English dictionary of Nanotechnology > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
10 химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
См. также в других словарях:
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) * Liquid Phase Chemical Vapour Deposition (Academic & Science » Electronics) … Abbreviations dictionary
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition Contributor: CASI … NASA Acronyms
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
Crystalline silicon — is a material consisting of one or more small silicon crystals. Polycrystalline silicon Polycrystalline silicon (or polysilicon, poly Si, or simply poly in context) is a material consisting of multiple small silicon crystals.Polycrystalline… … Wikipedia
Silicon nitride — Preferred IUPAC name Silicon nitride … Wikipedia