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1 проявляющий раствор
adj1) textile. Kupplungsflotte2) cinema.equip. Entwicklerbad, Entwicklerflüssigkeit, Entwicklerlösung, Entwicklungsbad -
2 раствор проявителя
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3 developer
noun1) (Photog.) Entwickler, der2) (person who develops real estate) ≈ Bauunternehmer, der3)late or slow developer — (person) Spätentwickler, der
* * *de·vel·op·er[dɪˈveləpəʳ, AM -ɚ]n1. PSYCH* * *[dɪ'veləpə(r)]n1)See:= property developer3)late developer — Spätentwickler( in) m(f)
* * *1. FOTO Entwickler(in)2. FOTO Entwickler(flüssigkeit) m(f)4. Bauunternehmer(in)* * *noun1) (Photog.) Entwickler, der2) (person who develops real estate) ≈ Bauunternehmer, der3)late or slow developer — (person) Spätentwickler, der
* * *n.Entwickler m. -
4 developer
См. также в других словарях:
Entwicklerflüssigkeit — Die Entwicklerflüssigkeit (auch Entwickler genannt) hat die Aufgabe, die latenten Bilder eines belichteten Filmes sichtbar zu machen (siehe auch Fotoemulsion). Entwickler sind Reduktionsmittel, auf die belichtete und unbelichtete… … Deutsch Wikipedia
Developer — Entwickler steht für: eine Person die etwas entwickelt, siehe Entwicklungsingenieur, Softwareentwickler und Spieleentwickler Immobilienentwickler, siehe Bauträger eine Chemikalie in der Fotografie, mit der das Bild auf Film oder Papier sichtbar… … Deutsch Wikipedia
Fotoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Negativresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photolack — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Photoresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Positivresist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
Resist — Fotolacke (engl. Photoresist) werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro und Submikrometerbereich und bei der Leiterplattenherstellung verwendet. Die wichtigsten Ausgangsstoffe … Deutsch Wikipedia
1,2-Diaminobenzol — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia
1,2-Phenylendiamin — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia
1,3-Phenylendiamin — Phenylendiamine Name o Phenylendiamin m Phenylendiamin p Phenylendiamin Andere Namen 1,2 Diaminobenzol 1,3 Diaminobenzol 1,4 Diaminobenzol, C.I. 76060 Strukturformel … Deutsch Wikipedia