-
101 excimer-laser-induced cvd
Микроэлектроника: химическое осаждение из паровой фазы с эксимерным лазеромУниверсальный англо-русский словарь > excimer-laser-induced cvd
-
102 gradient field plasma cvd
Микроэлектроника: плазмохимическое осаждение из паровой фазы с переменным градиентомУниверсальный англо-русский словарь > gradient field plasma cvd
-
103 homogeneous cvd
Микроэлектроника: гомогенное химическое осаждение из паровой фазы -
104 inside vapor deposition
Силикатное производство: осаждение из паровой фазы на внутреннюю поверхностьУниверсальный англо-русский словарь > inside vapor deposition
-
105 laser-induced cvd
Микроэлектроника: лазерно-стимулированное химическое осаждение из паровой фазы -
106 liquefaction cvd
Микроэлектроника: химическое осаждение из паровой фазы с образованием жидкой -
107 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
Макаров: химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
108 low-pressure cvd
Микроэлектроника: химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении -
109 low-temperature cvd
Микроэлектроника: низкотемпературное осаждение из паровой фазы -
110 low-temperature vapor deposition
Микроэлектроника: низкотемпературное осаждение из паровой фазыУниверсальный англо-русский словарь > low-temperature vapor deposition
-
111 metallo-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
Макаров: химическое осаждение из паровой фазы методом разложения металлоорганических соединенийУниверсальный англо-русский словарь > metallo-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
-
112 optical cvd
Микроэлектроника: фотохимическое осаждение из паровой фазы -
113 plasma chemical vapor deposition
Силикатное производство: плазмохимическое осаждение из паровой фазыУниверсальный англо-русский словарь > plasma chemical vapor deposition
-
114 plasma enhanced chemical vapor deposition
Универсальный англо-русский словарь > plasma enhanced chemical vapor deposition
-
115 plasma-enchanced CVD
Микроэлектроника: плазмохимическое осаждение из паровой фазы -
116 thermal cvd
Микроэлектроника: термохимическое осаждение из паровой фазы -
117 ultrahigh vacuum cvd
Микроэлектроника: химическое осаждение из паровой фазы в сверхвысоком вакууме -
118 vacuum vapor deposition
Микроэлектроника: вакуумное осаждение из паровой фазыУниверсальный англо-русский словарь > vacuum vapor deposition
-
119 very low-pressure cvd
Микроэлектроника: осаждение из паровой фазы при очень низком давлении -
120 Physical Vapour Deposition
Автомобильный термин: (PVD) физическое осаждение из паровой фазы (метод нанесения покрытий, например, на поршневые кольца)Универсальный англо-русский словарь > Physical Vapour Deposition
См. также в других словарях:
осаждение из паровой фазы — Процесс покрытия, разновидность осаждения материала в виде индивидуальных атомов или молекул. Наиболее общие PVD методы включают разбрызгивание и испарение. Разбрызгивание, которое является главным процессом PVD, использует перенос материала от… … Справочник технического переводчика
Осаждение из паровой фазы — Physical vapor deposition (PVD) Осаждение из паровой фазы. Процесс покрытия, разновидность осаждения материала в виде индивидуальных атомов или молекул. Наиболее общие PVD методы включают разбрызгивание и испарение. Разбрызгивание, которое… … Словарь металлургических терминов
осаждение из паровой фазы — garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. evaporation deposition; vapor deposition; vapor phase deposition vok. Abscheidung aus der Dampfphase, f; Dampfphasenabscheidung, f rus. осаждение из паровой фазы, n pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
плазмохимическое осаждение из паровой фазы — Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ энергии. — [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN PECVDplasma enhanced chemical vapor deposition … Справочник технического переводчика
быстрое термохимическое осаждение из паровой фазы — Термически ускоренный процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при высокой температуре, но за очень короткое время. [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN RTCVDrapid thermal chemical… … Справочник технического переводчика
избирательное химическое осаждение из паровой фазы — Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором тонкопленочный материал осаждается только в выбранных местах на поверхности подложки; избирательность осаждения управляется химическим составом поверхности, который можно локально… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений — Процесс химического осаждения из паровой фазы, при котором используются металлоорганические соединения, термически разлагающиеся при температурах более низких, чем другие металлосодержащие соединения; метод часто используется при эпитаксиальном… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).… … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN LPCVDLow Pressure Chemical Vapor Deposition … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Химическое осаждение из паровой фазы — 1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждается на нагретую подложку.… … Официальная терминология