-
1 LPCVD
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > LPCVD
-
2 LPCVD
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > LPCVD
-
3 LPCVD
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении -
4 LPCVD
сокр. [low-pressure chemical vapor deposition] химическое осаждение из паровой [газовой] фазы при пониженном давлении -
5 LPCVD
сокр. от low-pressure chemical vapor depositionхимическое осаждение из паровой [газовой\] фазы при пониженном давлении -
6 LPCVD
1) Электроника: Liquid Phase Chemical Vapour Deposition2) Полупроводники: low pressure chemical vapor deposition3) Макаров: low-pressure chemical vapor deposition -
7 LPCVD
low-pressure chemical vapor deposition - вакуумное химическое осаждение из газовой фазы; химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении -
8 LPCVD
• alipainetta käyttävä kemiallinen kaasufaasikasvatus -
9 LPCVD reactor
Микроэлектроника: реактор для химического осаждения из паровой фазы -
10 LPCVD reactor
реактор для хімічного осадження з парової фази при низькому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > LPCVD reactor
-
11 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
Макаров: химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
12 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
13 low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
хімічне осадження з парової [газової] фази при зниженому тискуEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD)
-
14 Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
-
15 low-pressure chemical vapor deposition
1) Техника: вакуумное химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении2) Микроэлектроника: химическое парофазное осаждение при низком давлении3) Макаров: (LPCVD) химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давленииУниверсальный англо-русский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
-
16 deposition
осадження - blanket deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- diffusional deposition
- dynamic deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolythic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporation deposition
- evaporative deposition
- excimer-induced deposition
- film deposition
- gas deposition
- glow-discharge deposition
- high-rate deposition
- ion-beam induced deposition
- ion-beam deposition
- ionized-cluster beam deposition
- laser gold deposition
- laser-induced deposition
- laser photo-assisted deposition
- laser photochemical deposition
- localized electrochemical deposition LED
- localized electrochemical deposition
- low-pressure chemical vapor deposition LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
- low-temperature vapor deposition
- metal deposition
- metall-organic deposition
- microcrystalline like deposition
- microwave plasma reactive vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multiple-stage deposition
- oblique deposition
- open-tube deposition
- photochemical deposition
- photo-initiated deposition
- photolytic deposition
- photon-controlled deposition
- physical vapor deposition
- plasma-assisted laser deposition
- pyrolytic deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- static deposition
- thin-film deposition
- vacuum vapor deposition
- vapor-phasedeposition
- vapordepositionEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deposition
-
17 reactor
1) (хімічний) реактор 2) котушка індуктивності; конденсатор - batch-loaded reactor
- chemical vapor deposition reactor
- cylindrical plasma etching reactor
- cylindrical plasma reactor
- EPI epitaxial reactor
- EPI reactor
- epitaxial reactor
- etching reactor
- high-pressure reactor
- hot-well reactor
- laboratory-scale reactor
- LPCVD reactor
- LPE reactor
- MO-CVD reactor
- MOVPE reactor
- multifacet reactor
- multiwafer plasma reactor
- nitride-охide NITROX reactor
- nitride-охide reactor
- oxide reactor
- “pancake” reactor
- parallel-plate reactor
- planar plasma etching reactor
- planar plasma reactor
- plasma etching reactor
- plasma reactor
- radial-flow plasma etching reactor
- sputteringreactor
- sputterreactor -
18 Low Pressure Chemical Vapor Deposition
(LPCVD)Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давленииАнгло-русский словарь по нанотехнологиям > Low Pressure Chemical Vapor Deposition
-
19 APCVD
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > APCVD
-
20 atmospheric pressure chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении
Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при атмосферном давлении; результатом обычно бывает низкое качество пленки и низкая конформность по сравнению с аналогичным процессом при низком давлении (LPCVD).
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > atmospheric pressure chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition (Academic & Science » Electronics) * Liquid Phase Chemical Vapour Deposition (Academic & Science » Electronics) … Abbreviations dictionary
LPCVD — Low Pressure Chemical Vapor Deposition Contributor: CASI … NASA Acronyms
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
CVD-процесс — Плазменная установка ускоряет рост углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD. CVD процесс (англ. Chemical vapor deposition химическое парофазное осаждение) хим … Википедия
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
Crystalline silicon — is a material consisting of one or more small silicon crystals. Polycrystalline silicon Polycrystalline silicon (or polysilicon, poly Si, or simply poly in context) is a material consisting of multiple small silicon crystals.Polycrystalline… … Wikipedia
Silicon nitride — Preferred IUPAC name Silicon nitride … Wikipedia